設備功能：把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入lpcvd設備的反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜。

        主要企業品牌：

        國際：日本日立國際電氣公司、

        國內：中國電子科技集團第四十八所、上海馳艦半導體科技有限公司、中國電子科技集團第四十五所、北京儀器廠、上海機械廠。

        12、等離子體增強化學氣相淀積系統

        設備功能：在沉積室利用輝光放電，使其電離后在襯底上進行化學反應，沉積半導體薄膜材料。

        主要企業品牌：

        國際：日本tokki公司、日本島津公司、美國公司、美國泛林半導體公司、荷蘭asm國際公司。

        國內：北京儀器廠、中國電子科技集團第四十五所、上海機械廠。

        13、磁控濺射臺

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