3、反應離子刻蝕系統

        設備功能：平板電極間施加高頻電壓，產生數百微米厚的離子層，放入式樣，離子高速撞擊式樣，實現化學反應刻蝕和物理撞擊，實現半導體的加工成型。

        主要企業品牌：

        國際：日本公司、美國公司、新加坡rec公司、韓國公司、韓國tes公司。

        國內：北京儀器廠、北京七星華創電子有限公司、成都南光實業股份有限公司、中國電子科技集團第四十八所。

        4、離子注入機

        設備功能：對半導體表面附近區域進行摻雜。

        主要企業品牌：

        國際：美國維利安半導體設備公司、美國cha公司、美國amat公司、半導體制造設備公司被amat收購。

        國內：北京儀器廠、中國電子科技集團第四十八所、成都南光實業股份有限公司、沈陽方基輕工機械有限公司、上海硅拓微電子有限公司。

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